Ge substrate

ແຜ່ນຍ່ອຍ Ge ຫມາຍເຖິງ substrate ທີ່ເຮັດດ້ວຍອົງປະກອບ germanium (Ge).Germanium ແມ່ນວັດສະດຸ semiconductor ທີ່ມີຄຸນສົມບັດເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ເປັນເອກະລັກທີ່ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ເອເລັກໂຕຣນິກແລະ optoelectronic ທີ່ຫລາກຫລາຍ.

Ge substrates ຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປໃນການຜະລິດອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກ, ໂດຍສະເພາະໃນພາກສະຫນາມຂອງເຕັກໂນໂລຊີ semiconductor.ພວກມັນຖືກນໍາໃຊ້ເປັນວັດສະດຸພື້ນຖານສໍາລັບການຝາກຮູບເງົາບາງໆແລະຊັ້ນ epitaxial ຂອງ semiconductors ອື່ນໆເຊັ່ນຊິລິຄອນ (Si).ຊັ້ນຍ່ອຍ Ge ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອການຂະຫຍາຍຕົວ heterostructures ແລະຊັ້ນ semiconductor ປະສົມທີ່ມີຄຸນສົມບັດສະເພາະສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກເຊັ່ນ transistors ຄວາມໄວສູງ, photodetectors, ແລະຈຸລັງແສງຕາເວັນ.

Germanium ຍັງຖືກນໍາໃຊ້ໃນ photonics ແລະ optoelectronics, ບ່ອນທີ່ມັນສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ເປັນ substrate ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວ infrared (IR) ເຄື່ອງກວດຈັບແລະເລນ.Ge substrates ມີຄຸນສົມບັດທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ infrared, ເຊັ່ນ: ລະດັບການສົ່ງທີ່ກ້ວາງໃນພາກພື້ນ infrared ກາງແລະຄຸນສົມບັດກົນຈັກທີ່ດີເລີດໃນອຸນຫະພູມຕ່ໍາ.

Ge substrates ມີໂຄງສ້າງເສັ້ນໄຍທີ່ຈັບຄູ່ກັນຢ່າງໃກ້ຊິດກັບຊິລິໂຄນ, ເຮັດໃຫ້ພວກມັນເຂົ້າກັນໄດ້ສໍາລັບການເຊື່ອມໂຍງກັບເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ໃຊ້ Si.ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ນີ້ອະນຸຍາດໃຫ້ການຜະລິດໂຄງສ້າງປະສົມແລະການພັດທະນາອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກແລະ photonic ກ້າວຫນ້າ.

ສະຫຼຸບແລ້ວ, ຊັ້ນໃຕ້ດິນ Ge ຫມາຍເຖິງຊັ້ນຍ່ອຍທີ່ເຮັດດ້ວຍ germanium, ວັດສະດຸ semiconductor ທີ່ໃຊ້ໃນການນໍາໃຊ້ເອເລັກໂຕຣນິກແລະ optoelectronic.ມັນເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນເວທີສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວຂອງວັດສະດຸ semiconductor ອື່ນໆ, ເຮັດໃຫ້ການຜະລິດອຸປະກອນຕ່າງໆໃນຂົງເຂດເອເລັກໂຕຣນິກ, optoelectronics ແລະ photonics.